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诺普得

半导体与电子

202103111852.jpg生产集成电路芯片需要高度专业化的设备,可在多重苛刻环境下工作,如:        

  •   真空环境下的等离子

  •   高温

  •   与高度研磨液接触

  •   暴露于多种高腐蚀性化学品

与石英和陶瓷等传统材料相比,三菱化学高新材料(Mitsubishi Chemical Advanced Materials EPP)已研发出多种材料,既满足了晶圆低污染加工的严格要求,又是低成本的解决方案。我们的材料被设计用于整个晶圆加工制程。

您的优势

  •   准确复制任何地区可用的材料

  •   广泛的材料选择、工程支持和测试能力

  •  机加工能力,支持仿真系统NPI应用发展

  •  材料组合广泛,专设计用于湿制程工具

  •  CMP环材料的制造商,包括Techtron® PPS(CMP应用)

  •  用于刻蚀、CVD和离子植入等干式制程工具的材料,可降低成本和提高性能

产品与应用

产品

应用

  • Techtron® PPS

  • Semitron® CMP XL20

  • Ketron® 1000 PEEK

  • Ertalyte® PET-P

  • Duratron® PAI

  • CMP环

  • 刻蚀和CVD反应腔

  • 晶圆传送

  • 湿制程构造

  • 湿制程部件

    HP化学品和水储存容器内衬


此页内容摘自https://www.mcam.com/zh/行业应用/半导体与电子/